Workshop on Electron Device Interface Technology

Workshop on Electron Device Interface Technology Workshop on Electron Device Interface Technology Workshop on Electron Device Interface Technology
26th Workshop on Electron Device Interface Technology
Jan. 22 (Fri.) - 23 (Sat.), 2021
Virtual meeting (WebEx, Zoom, Remo)


電子デバイスの性能向上・集積化・機能発現に向けて,その鍵を握る界面の基礎から応用までの幅広いテーマについて,実験と理論の両面から深く議論する研究会です。


応用物理学会 薄膜・表面物理分科会およびシリコンテクノロジー分科会共催の特別研究会として,1996年から2004年までは「極薄シリコン酸化膜の形成・評価・信頼性研究会」,2005年から2015年までは「ゲートスタック研究会 ―材料・プロセス・評価の物理―」との名称で開催され,2016年から現在の「電子デバイス界面テクノロジー研究会 ―材料・プロセス・評価の物理―」となりました。

CALL FOR PAPERS (pdf) ダウンロード

*予稿集への広告掲載を募集します。詳細はこちらをご覧下さい。



【参加者限定】予稿集・講演会場

1月22日0時以降に、予稿集のダウンロードおよび講演会場へのアクセスが可能となります。

参加登録時にメールでお送りした、参加登録番号とパスワードでログインしてください。
メール未着の場合は、secretary@edit-ws.jpまでお問い合わせください。


★重要★
ポスターセッションで使用するブレイクアウトルーム機能はバージョン5.3.0以降のZOOMアプリが必要です。(ブラウザからの参加は不可)

最新版ZOOMアプリはこちらからダウンロードください。




オンライン開催マニュアル(PDF)

研究会当日の参加方法・講演方法などをまとめたマニュアルです。
参加登録された方、講演者の方はご一読ください。



更新情報



協賛

日本物理学会,日本化学会,日本金属学会,日本表面科学会,電子情報通信学会,電気学会,触媒学会,日本真空協会,電気化学会,表面技術協会,日本顕微鏡学会,日本セラミックス協会,精密工学会



開催助成

公益財団法人 村田学術振興財団

Recommended environment