






電子デバイスの性能向上・集積化・機能発現に向けて,その鍵を握る界面の基礎から応用までの幅広いテーマについて,実験と理論の両面から深く議論する研究会です。
応用物理学会 薄膜・表面物理分科会およびシリコンテクノロジー分科会共催の特別研究会として,1996年から2004年までは「極薄シリコン酸化膜の形成・評価・信頼性研究会」,2005年から2015年までは「ゲートスタック研究会 ―材料・プロセス・評価の物理―」との名称で開催され,2016年から現在の「電子デバイス界面テクノロジー研究会 ―材料・プロセス・評価の物理―」となりました。
CALL FOR PAPERS (pdf) ダウンロード*予稿集への広告掲載を募集します。詳細はこちらをご覧下さい。
【参加者限定】予稿集・講演会場
1月22日0時以降に、予稿集のダウンロードおよび講演会場へのアクセスが可能となります。
参加登録時にメールでお送りした、参加登録番号とパスワードでログインしてください。
メール未着の場合は、secretary@edit-ws.jpまでお問い合わせください。
★重要★
ポスターセッションで使用するブレイクアウトルーム機能はバージョン5.3.0以降のZOOMアプリが必要です。(ブラウザからの参加は不可)
最新版ZOOMアプリはこちらからダウンロードください。
オンライン開催マニュアル(PDF)
研究会当日の参加方法・講演方法などをまとめたマニュアルです。
参加登録された方、講演者の方はご一読ください。
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更新情報
- オンライン企業展示会を公開しました.(2021.1.21)
- 【参加者限定】予稿集・講演会場へのリンクを公開しました.(2021.1.18)
- EDIT26オンライン開催マニュアルを公開しました.(2021.1.15)
- プログラムを公開しました.(2020.12.22)
- 参加申込を開始しました.(2020.11.25)
- 一般講演投稿締め切りを11/2に延長しました.(2020.10.23)
- 一般講演申込みを開始しました.(2020.10.1)
協賛
日本物理学会,日本化学会,日本金属学会,日本表面科学会,電子情報通信学会,電気学会,触媒学会,日本真空協会,電気化学会,表面技術協会,日本顕微鏡学会,日本セラミックス協会,精密工学会開催助成
公益財団法人 村田学術振興財団