電子デバイス界面テクノロジー研究会

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第26回 電子デバイス界面テクノロジー研究会
2021.1.22(金)〜1.23(土)
    
Webexによるオンライン開催(Live配信)
 



電子デバイスの性能向上・集積化・機能発現に向けて,その鍵を握る界面の基礎から応用までの幅広いテーマについて,実験と理論の両面から深く議論する研究会です。


応用物理学会 薄膜・表面物理分科会およびシリコンテクノロジー分科会共催の特別研究会として,1996年から2004年までは「極薄シリコン酸化膜の形成・評価・信頼性研究会」,2005年から2015年までは「ゲートスタック研究会 ―材料・プロセス・評価の物理―」との名称で開催され,2016年から現在の「電子デバイス界面テクノロジー研究会 ―材料・プロセス・評価の物理―」となりました。

CALL FOR PAPERS (pdf) ダウンロード

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【参加者限定】予稿集・講演会場

1月22日0時以降に、予稿集のダウンロードおよび講演会場へのアクセスが可能となります。

参加登録時にメールでお送りした、参加登録番号とパスワードでログインしてください。
メール未着の場合は、secretary@edit-ws.jpまでお問い合わせください。


★重要★
ポスターセッションで使用するブレイクアウトルーム機能はバージョン5.3.0以降のZOOMアプリが必要です。(ブラウザからの参加は不可)

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オンライン開催マニュアル(PDF)

研究会当日の参加方法・講演方法などをまとめたマニュアルです。
参加登録された方、講演者の方はご一読ください。

参加者 口頭発表者 ポスター発表者 座長


更新情報



協賛

日本物理学会,日本化学会,日本金属学会,日本表面科学会,電子情報通信学会,電気学会,触媒学会,日本真空協会,電気化学会,表面技術協会,日本顕微鏡学会,日本セラミックス協会,精密工学会



開催助成

公益財団法人 村田学術振興財団